真空鍍膜
自主訂制設計，應用波長200~1600nm
熱鍍和冷鍍
RF離子源支持的離子源蒸鍍技術
石英膜厚監控和光學膜厚監控
光譜測試范圍180~3300nm
常規入射角下透過和反射測量范圍180~3300nm
可提供8°~65°入射角陪鍍片上剩余反射率測量
可提供70°入射角380~1100nm范圍透過反射測量
可提供常規入射角380~1100nm范圍球面剩余反射率測量
鍍膜前專門的“出新程序”清除基片表面的污染和氧化層
專門的光學光源檢查應用于鍍膜前基片的準備
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自主訂制設計，應用波長200~1600nm
熱鍍和冷鍍
RF離子源支持的離子源蒸鍍技術
石英膜厚監控和光學膜厚監控
光譜測試范圍180~3300nm
常規入射角下透過和反射測量范圍180~3300nm
可提供8°~65°入射角陪鍍片上剩余反射率測量
可提供70°入射角380~1100nm范圍透過反射測量
可提供常規入射角380~1100nm范圍球面剩余反射率測量
鍍膜前專門的“出新程序”清除基片表面的污染和氧化層
專門的光學光源檢查應用于鍍膜前基片的準備
