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    以后再說X

    真空鍍膜

    自主訂制設計,應用波長200~1600nm

    熱鍍和冷鍍

    RF離子源支持的離子源蒸鍍技術

    石英膜厚監控和光學膜厚監控

    光譜測試范圍180~3300nm

    常規入射角下透過和反射測量范圍180~3300nm

    可提供8°~65°入射角陪鍍片上剩余反射率測量

    可提供70°入射角380~1100nm范圍透過反射測量

    可提供常規入射角380~1100nm范圍球面剩余反射率測量

    鍍膜前專門的“出新程序”清除基片表面的污染和氧化層

    專門的光學光源檢查應用于鍍膜前基片的準備

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